Reducción de voltaje de umbral de canal corto
La reducción de voltaje de umbral de canal corto se define como una reducción en el voltaje de umbral de MOSFET debido al efecto de canal corto.
Símbolo: ΔVT0
Medición: Potencial eléctricoUnidad: V
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
Concentración de aceptor
La concentración del aceptor se refiere a la concentración de átomos dopantes aceptores en un material semiconductor.
Símbolo: NA
Medición: Concentración de portadoresUnidad: 1/cm³
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
Potencial de superficie
El potencial de superficie es un parámetro clave en la evaluación de la propiedad de CC de los transistores de película delgada.
Símbolo: Φs
Medición: Potencial eléctricoUnidad: V
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
Profundidad de unión
La profundidad de unión se define como la distancia desde la superficie de un material semiconductor hasta el punto donde se produce un cambio significativo en la concentración de átomos dopantes.
Símbolo: xj
Medición: LongitudUnidad: μm
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
Capacitancia de óxido por unidad de área
La capacitancia de óxido por unidad de área se define como la capacitancia por unidad de área de la capa de óxido aislante que separa la puerta metálica del material semiconductor.
Símbolo: Coxide
Medición: Capacitancia de óxido por unidad de áreaUnidad: μF/cm²
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
Longitud del canal
La longitud del canal se refiere a la longitud física del material semiconductor entre los terminales de fuente y drenaje dentro de la estructura del transistor.
Símbolo: L
Medición: LongitudUnidad: μm
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
Profundidad de agotamiento de la unión Pn con fuente
La profundidad de agotamiento de la unión pn con la fuente se define como la región alrededor de una unión pn donde los portadores de carga se han agotado debido a la formación de un campo eléctrico.
Símbolo: xdS
Medición: LongitudUnidad: μm
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
Profundidad de agotamiento de la unión PN con drenaje
La profundidad de agotamiento de la unión Pn con drenaje se define como la extensión de la región de agotamiento hacia el material semiconductor cerca del terminal de drenaje.
Símbolo: xdD
Medición: LongitudUnidad: μm
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
carga de electrones
La carga del electrón es una constante física fundamental que representa la carga eléctrica transportada por un electrón, que es la partícula elemental con carga eléctrica negativa.
Símbolo: [Charge-e]
Valor: 1.60217662E-19 C
Permitividad del silicio
La permitividad del silicio mide su capacidad para almacenar energía eléctrica en un campo eléctrico, vital en la tecnología de semiconductores.
Símbolo: [Permitivity-silicon]
Valor: 11.7
Permitividad del vacío
La permitividad del vacío es una constante física fundamental que describe la capacidad del vacío para permitir la transmisión de líneas de campo eléctrico.
Símbolo: [Permitivity-vacuum]
Valor: 8.85E-12 F/m